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1、泥膏型面膜
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泥膏型面膜不仅能够有效清洁皮肤,而且保湿效果也不错,能非常有效地软化阻塞在毛孔口的硬化皮脂。经过泥膏型清洁面膜敷脸后,面部的黑头、粉刺很容易挤出来,尤其对不适宜用蒸气的干性皮肤是很不错的选择。不含特殊吸油成分的泥膏型面膜对中、干、油性皮肤都适用。但对油性皮肤来说,选择含较多高岭土(也称中国粘土)或有添加吸油成分的面膜,效果才最佳。
3 n6 N7 D$ H6 p Z5 e6 g 泥膏型面膜虽然清洁效果很好,但因产品内含有较高的防腐剂以防止细菌在湿润的泥膏中生长,并且成分中矿物质的含量较多,所以敏感型的肌肤应该谨慎使用。7 G* ^ e4 V5 M( F
% I" ^% S; l& q! L- O 2、撕剥型面膜
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; P. R' i5 ^: T% l 撕剥型面膜的清洁原理与泥膏型相同,也是通过升高表皮温度,促进血液循环和新陈代谢。主要成分是高分子胶、水和酒精,其它的成分很少。由于撕剥面膜的使用过程需要等到面膜干燥才能完成,所以成分中不能添加保湿剂,这对干性皮肤不太适合,另外由于撕剥的动作,敏感型肌肤也不太适用。
) g' ]- x& x/ m) a f$ I, G; E 撕剥顺序要自上而下,尤其要注意避开眼眶、眉部、发际及嘴唇周围的肌肤,防止撕剥时肌肤受到损伤。# I: y- d6 z5 L M0 l& m! c
# D5 B1 T& q; l; [0 G7 ?- n& B; {( p 3、冻胶型面膜6 \+ j; J/ H" q. X& ] P4 W( b9 U
, ?0 Q$ @7 V7 M6 Z* Q3 z 如果把冻胶型清洁面膜中的碱剂及表面活性剂拿掉,再加入一些保养成分,就成为冻胶型的保养面膜了。而这类面膜还可以再简单分为透明及不透明两种。透明的冻胶型保养面膜只能加入水溶性的护肤成分,所以比较适合油性肤质。而不透明的冻胶型面膜可以加入的成分比较多,干性肤质也可以使用。
+ ?+ I* x' j( O6 [. }' f* p 涂抹要有一定厚度。面膜的薄厚有讲究,不能是薄薄的一层,一定要盖住毛孔,这样面膜的成分才能更好地发挥作用。
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4、乳霜型面膜
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+ ]" E# c G# A- {; W2 r( _. p. _ 有的厂家将乳霜做得浓稠一点以面膜的形式推出,从原理上讲没有什么不对,但从皮肤保养的效果来讲,乳霜型保养面膜的效果与一般晚霜的效果差不了多少。
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: k: S+ P! f4 ]' n& \. Z 乳霜型面膜质地跟护肤霜差不多,具有美白、保湿、舒缓等效果的面膜大多属于此类。它的使用也很方便,敷完后只要用面纸擦拭干净即可。
6 ?5 Z' s8 c d o4 Y2 V 因为质地温和,所以乳霜型面膜适应面比较广,敏感性肌肤也能放心使用。
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/ k9 G: G' _7 Z5 ^; Y: z+ { ] 5、绵布式保养面膜3 r* A' U$ i$ [% U- L1 Y5 @+ B- ~+ ]
0 T8 W" [+ K9 e+ ^. D 绵布式保养面膜是现代最新潮流。绵布式面膜就是将调配好的高浓度保养精华液吸附在绵布(纸)上,使用时撕开包装敷到脸上即可。
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/ W4 w& V! x g4 e+ x7 L, m* y3 Y 绵布式面膜的主要优点是从成分上易于控制并可添加多种养分,从机制上能大大提高有效护肤成分对皮肤的渗透量及渗透深度,并能迅速有效地改变皮肤含水量,而使用上又十分方便,避免了用后清洗和防腐剂等问题。这是现代女性中最常用的一种面膜!2 g3 ? e! Y" c' F2 j+ g5 u1 m9 M1 \3 O
不过这类面膜没有清洁效果,不适合需要深层洁肤的人,有的形状也不太规则,以至于使用起来不太舒服。3 L9 Z' y) V& Z& R0 X! b0 l
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6、泡沫面膜* g b+ o, Q) U1 F c' N
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这是一款最新最时尚的面膜!它就是利用气雾剂原理,将气体混入面膜中,形成细密微乳状态的全新面膜。0 t+ P& h0 t0 Y8 V, r6 u: F8 M
面膜覆盖在脸上后,皮肤温度会导致泡沫膨胀,压力变小,在皮肤表面形成负压状态,皮肤内部的沉积物和游离物会自动排出并被溶解。同时面膜中的活性成份交换进入皮肤。随着泡沫的不断破裂,更多活性成份进入皮肤,而皮肤表面的灰尘\油脂\沉积物不断置换出。
' t7 h8 ?: e, k9 z- _: V" z9 g2 ^5 g 泡沫剂对毛囊主要是溶出作用,彻底清洁效果好,并有收缩毛孔的作用,泡沫面膜有养护\清洁\保湿三重功效。! \. l- _1 L2 t$ K0 x* _
泡沫面膜具有温和细腻的特性,对皮肤完全没有伤害,能每天做;在冬季使用,也没有寒冷的感觉。
: s7 |/ A$ c! s( W; W# B 泡沫面膜使用方法:将泡沫面膜振荡摇匀后挤在手心,约鸡蛋大小。然后逐步涂抹在脸上,10分钟后轻轻按摩拍打至面膜基本被吸收,用清水洗净,用脸巾吸干即可。7 e& c$ U; o, D: R% H/ c
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